真空腔體進行高溫烘烤是獲得和維持超高真空環境的關鍵步驟。這一過程通過物理和化學作用顯著降低材料放氣率，確保真空系統的穩定運行。

高溫烘烤的首要作用是qing除材料表面吸附的氣體分子。在常溫下，不銹鋼、陶瓷等材料表面會吸附大量水汽、油脂和其他氣體分子，這些物質會緩慢釋放，阻礙真空度的提升。通過將腔體加熱到150-250℃，可以加速氣體分子的解吸過程。熱量使分子獲得足夠動能脫離材料表面，同時高溫還能削弱氣體分子與材料表面的結合力，顯著提高脫附效率。實際操作中通常采用加熱帶纏繞腔體外壁并包裹鋁箔保溫，或者使用烘烤帳篷進行整體加熱，以確保溫度均勻分布。

高溫烘烤還能優化材料表面特性，抑制后期放氣。當不銹鋼被加熱到450℃以上時，碳原子會向材料內部擴散，從而降低表面碳濃度，減少碳氫化合物殘留。高溫還能促使金屬表面晶格重組，封閉氣體吸附位點，減少微觀缺陷，從而降低材料后續的氣體吸附能力。這種處理對于半導體制造和粒子物理實驗等精密應用尤為重要，可以有效避免雜質污染樣品或干擾測量結果。

高溫烘烤需要與真空泵組協同工作，形成完整的氣體qing除*系統。在高溫條件下，材料深層的氣體如氫氣會加速擴散到表面，被真空泵及時抽走。經過烘烤處理的腔體，其放氣率可以降低到未處理時的千分之一，大大縮短達到超高真空所需的時間。這種處理顯著提高了真空系統的長期穩定性，為精密實驗和工業生產提供了可靠的環境保障。